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磁控濺射源.jpg

 

 

星弧涂層所提供的磁控濺射濺射陰極具有平衡或非平衡的磁場設計,靶材的離化率和利用率優異,多跑道的設計可用于大批量工業生產,同時使得設備運營成本降低20%以上。
        磁控濺射陰極是標準系列產品,星弧也可根據客戶的具體需求而設計生產客制化的產品。

技術特點:
  陰極采用緊湊的矩形平面設計,磁場可沿單軸或雙軸運動 
  在單個圓柱形靶材上最多有三條等離子軌道
●  高達50%的靶材利用率
●  配備星弧電源:DC,RF和中頻AC
  法蘭連接使得安裝和維修更便捷  

典型應用:
  切削工具,模具具的硬質涂層
  玻璃,磁盤連續涂層
  研發用薄膜沉積 
 
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